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			加急見(jiàn)刊
		
        
		

		
		
        
			
        
				
				
				
        
					
					
        
						
						
        Ce基低溫NH3-SCR催化劑的研究進(jìn)展
        
						
        張志平; 楊飄萍  哈爾濱工程大學(xué); 材料科學(xué)與化學(xué)工程學(xué)院; 哈爾濱150001
        

					
        
					
        摘要：NH3選擇催化還原(NH3-SCR)是一種優(yōu)異的NOx脫除技術(shù),當前該技術(shù)中使用最廣泛的商業(yè)催化劑為V2O5-WO3(WO3)/TiO2。由于這種催化劑中含有毒的V﹑且具有強的SO2氧化能力以及高的操作溫度窗口(350~400℃)等原因,并不適用于低溫條件下使用。因此,發(fā)展一種在低溫下具有較高活性以及對環(huán)境友好的催化劑受到了研究者們的廣泛關(guān)注。近些年,人們發(fā)現Ce基氧化物催化劑具有獨特的氧儲存和釋放以及氧化還原性能,在NH3-SCR反應中表現出優(yōu)異的低溫催化活性,被認為是SCR反應催化劑的候選者。在此本文詳細地闡述了Ce基氧化物催化劑用于低溫NH3-SCR反應過(guò)程中的研究進(jìn)展(活性以及抗硫性能)和存在的缺點(diǎn),為未來(lái)高效Ce基氧化物催化劑的研發(fā)提供指導。
        
					
        注: 保護知識產(chǎn)權,如需閱讀全文請聯(lián)系黑龍江大學(xué)自然科學(xué)學(xué)報雜志社
        
				
        
				

			
        
		
        

		
		

	
        

	
	
	
	
	
	
	
	


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