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			加急見(jiàn)刊
		
        
		

		
		
        
			
        
				
				
				
        
					
					
        
						
						
        SiO2/TiO2復合材料的制備及其光催化性能
        
						
        曹培; 周?chē)鴤? 齊魯工業(yè)大學(xué)(山東省科學(xué)院)實(shí)驗室與設備管理處; 濟南250353; 齊魯工業(yè)大學(xué)(山東省科學(xué)院)化學(xué)與制藥工程學(xué)院; 濟南250353
        

					
        
					
        摘要：首先以P123(EO20PO70EO20)和PEG(聚乙二醇)為復合模板,制備了短棒狀介孔SiO2,然后采用電子轉移催化劑再生-原子轉移自由基聚合(ARGETATRP)方法對其進(jìn)行改性。以改性后的SiO2為模板,以鈦酸四丁酯(TBT)為鈦源,制備了帶有TiO2殼的短棒狀介孔SiO2/TiO2光催化劑復合材料。采用熱重分析(TGA)、透射電子顯微鏡(TEM)、X射線(xiàn)衍射分析(XRD)、比表面和空隙分析儀對其進(jìn)行了表征,通過(guò)甲基橙光降解反應研究了其光催化性能。結果表明:親水性聚合物成功改性介孔SiO2;銳鈦礦相的TiO2納米粒子均勻分散在SiO2表面;制得的SiO2/TiO2復合材料具有雙峰孔結構;在可見(jiàn)光照射下,4.5h后對甲基橙的降解率最高可達到99.5%,具有較高的光催化效率。
        
					
        注: 保護知識產(chǎn)權,如需閱讀全文請聯(lián)系齊魯工業(yè)大學(xué)學(xué)報雜志社
        
				
        
				

			
        
		
        

		
		

	
        

	
	
	
	
	
	
	
	


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