摘要：對X射線(xiàn)掩模電子束制備圖形過(guò)程建立三維有限元模型,提出用熱流密度等效法簡(jiǎn)化瞬態(tài)熱應力計算,得到了X射線(xiàn)掩模在電子束直寫(xiě)過(guò)程中的瞬態(tài)熱形變.結果表明,掩模面內形變在直寫(xiě)過(guò)程中出現振蕩變化,最大值為8.24 nm,方向背離電子束光照中心,掩模面外形變最大值為9.75μm,方向沿圖形窗口法線(xiàn)方向,并出現在電子束束斑中心.
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