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      1. 加急見(jiàn)刊

        電子束直寫(xiě)中X射線(xiàn)光刻掩模的熱形變研究

        尚鴻雁; 王永坤 上海海事大學(xué); 物流工程學(xué)院; 上海; 200135; 北京航空航天大學(xué); 航空科學(xué)與工程學(xué)院; 北京; 100083

        摘要:對X射線(xiàn)掩模電子束制備圖形過(guò)程建立三維有限元模型,提出用熱流密度等效法簡(jiǎn)化瞬態(tài)熱應力計算,得到了X射線(xiàn)掩模在電子束直寫(xiě)過(guò)程中的瞬態(tài)熱形變.結果表明,掩模面內形變在直寫(xiě)過(guò)程中出現振蕩變化,最大值為8.24 nm,方向背離電子束光照中心,掩模面外形變最大值為9.75μm,方向沿圖形窗口法線(xiàn)方向,并出現在電子束束斑中心.

        注: 保護知識產(chǎn)權,如需閱讀全文請聯(lián)系微細加工技術(shù)雜志社

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