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			加急見(jiàn)刊
		
        
		

		
		
        
			
        
				
				
				
        
					
					
        
						
						
        超精密掩模臺位移測量系統熱漂移研究
        
						
        云攀攀; 張文濤; 王獻英  桂林電子科技大學(xué)電子工程與自動(dòng)化學(xué)院; 廣西桂林541004; 上海微電子裝備(集團)股份有限公司; 上海201203
        

					
        
					
        摘要：針對28nm浸沒(méi)式掃描光刻機掩模臺的光柵干涉儀位移測量系統,開(kāi)展了系統熱漂移研究,并進(jìn)行了熱漂移測試實(shí)驗與結果分析。該位移測量系統采用外差對稱(chēng)式四細分的光路設計以及柵距為1μm的二維光柵,配合2048倍電子細分的相位計數卡,其系統分辨力達到了0.12nm。熱漂移測試結果顯示:該系統的熱漂移X向為17.86nm/K,Y向為41.43nm/K。在光刻機掩模臺的實(shí)際測量環(huán)境中,測量環(huán)境的溫度波動(dòng)穩定在5mK以?xún)?此時(shí)系統的熱漂移X向可以控制在0.09nm以?xún)?Y向可以控制在0.21nm以?xún)?。?shí)驗數據表明系統的熱漂移誤差小于1nm,滿(mǎn)足掩模臺亞納米位移測量精度需求。
        
					
        注: 保護知識產(chǎn)權,如需閱讀全文請聯(lián)系儀器儀表用戶(hù)雜志社
        
				
        
				

			
        
		
        

		
		

	
        

	
	
	
	
	
	
	
	


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