《JOURNAL OF LASER APPLICATIONS》 期刊名縮寫(xiě):J LASER APPL 22年影響因子:2.521 issn:1042-346X eIssn:1938-1387 類(lèi)別: 農林科學(xué)化學(xué)工程技術(shù)物理地學(xué)綜合性期刊 學(xué)科與分區: 材料科學(xué),多學(xué)科(MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY) - SCIE(Q3)物理,應用(PHYSICS, APPLIED) - SCIE(Q3)光學(xué)(OPTICS) - SCIE(Q3) 出版國家或地區:UNITED STATES 出版周期:Quarterly 出版年份:1988 年文章數:118 是否OA開(kāi)放訪(fǎng)問(wèn):No Gold OA文章占比:4.73% 官方網(wǎng)站:scitation.aip.org/content/lia/journal/jla 投稿地址:jla.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex 編輯部地址:LASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826 錄用難度:容易