《LATIN AMERICAN APPLIED RESEARCH》 期刊名縮寫(xiě):LAT AM APPL RES 22年影響因子:0.702 issn:0327-0793 eIssn:1851-8796 類(lèi)別: 化學(xué)工程技術(shù) 學(xué)科與分區: 工程、化學(xué)(ENGINEERING, CHEMICAL) - SCIE(Q4) 出版國家或地區:ARGENTINA 出版周期:Quarterly 出版年份:0 年文章數:28 是否OA開(kāi)放訪(fǎng)問(wèn):No Gold OA文章占比:22.06% 官方網(wǎng)站:www.scielo.org.ar/revistas/laar/iinstruc.htm 投稿地址:www.laar.uns.edu.ar/submission.htm 編輯部地址:PLAPIQUI(UNS-CONICET), CAMINO LA CARRINDANGA, KM 7, C C 717, BAHIA BLANCA, ARGENTINA, 8000 錄用難度:容易