《Journal of Applied Mechanics and Technical Physics》 期刊名縮寫(xiě):J APPL MECH TECH PH+ 22年影響因子:0.561 issn:0021-8944 eIssn:1573-8620 類(lèi)別: 醫學(xué)環(huán)境科學(xué)與生態(tài)學(xué)工程技術(shù)物理地學(xué)天文 學(xué)科與分區: 物理,應用(PHYSICS, APPLIED) - SCIE(Q4)機械(MECHANICS) - SCIE(Q4) 出版國家或地區:RUSSIA 出版周期:Bimonthly 出版年份:0 年文章數:119 是否OA開(kāi)放訪(fǎng)問(wèn):No Gold OA文章占比:0% 官方網(wǎng)站:www.springer.com/physics/classical+continuum+physics/journal/10808 投稿地址:www.springer.com/physics/classical+continuum+physics/journal/10808 編輯部地址:SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013 錄用難度:容易