《Topics in Applied Physics》 期刊名縮寫(xiě):TOP APPL PHYS 22年影響因子:0.570 issn:0303-4216 eIssn:1437-0859 類(lèi)別: 生物工程技術(shù)物理 學(xué)科與分區: 物理,應用(PHYSICS, APPLIED) - SCIE(Q4) 出版國家或地區:UNITED STATES 出版周期:Quarterly 出版年份:1973 年文章數:13 是否OA開(kāi)放訪(fǎng)問(wèn):No Gold OA文章占比:15.19% 官方網(wǎng)站:www.springer.com/series/560 投稿地址: 編輯部地址:SPRINGER-VERLAG BERLIN, HEIDELBERGER PLATZ 3, BERLIN, GERMANY, D-14197 錄用難度:容易