AgBr/BiVO4催化劑的制備及可見(jiàn)光下降解酸性橙7的研究
摘要:BiVO4作為一種重要的半導體材料,因其具有無(wú)毒、價(jià)廉和穩定性好等優(yōu)點(diǎn),得到廣泛的應用,但存在著(zhù)光電子和空穴容易復合,吸附性能不強、光催化率不高以及回收處理比較難等問(wèn)題。本文通過(guò)水熱法-化學(xué)沉積方法制備AgBr/BiVO4復合光催化劑,通過(guò)XRD、PL、UV-DRS等方法分析表征物理化學(xué)性質(zhì),研究在可見(jiàn)光下對染料酸性橙7的降解,結果表明AgBr/BiVO4可見(jiàn)光照射90min后可以降解97.86%的酸性橙7。
注: 保護知識產(chǎn)權,如需閱讀全文請聯(lián)系武漢紡織大學(xué)學(xué)報雜志社